一、产品概述

SIMCO-ION QuadBar 型号 4635 是一款高洁净度局部除静电离子发生器，在经典型号 4630/4632 的基础上优化升级，进一步提升了除静电性能与操作便捷性。其核心优势在于适配空间受限、气流条件复杂的场景（如半导体光罩除静电），通过紧凑设计与精准离子控制，在狭窄环境中实现高效静电消除，同时满足半导体行业对洁净度的严苛要求。

二、核心特点

自动离子平衡，免手动调试
采用 SIMCO 独有的 IsoStat 技术，可自动实时调节离子平衡，无需人工干预调整，长期保持稳定的离子输出状态，减少运维成本。
双电源兼容，适配多场景
支持 24V DC 与 24V AC 双输入电源（均允许±5%电压波动），可灵活匹配不同设备的供电系统，适用于半导体生产线等多电源环境。
高洁净电极，保障半导体**
电极采用 单晶硅材质（可更换），无金属杂质脱落风险，配合稳态直流电晕放电技术，满足半导体器件生产对洁净度的高要求，避免因电极污染影响产品良率。
超紧凑设计，安装灵活度高
- *小安装距离仅 7.6cm（3英寸），可近距离贴近待除电物体（如晶圆、光罩）；
- 机身尺寸小巧（不含空气接口时，高33mm×宽33mm×长91mm），重量仅108g，能轻松嵌入设备狭小空间，实现多样化布局。
双滤芯可选，兼顾效率与维护
配备两种空气辅助滤芯，适配不同除电需求：
- 标准滤芯：电极带防护鞘，减少灰尘附着，延长清洁周期，适合常规场景；
- 喷射跨通道滤芯：通过中心孔高速喷射离子化气体，除静电速度更快，适合高需求场景。
独立气流系统，不受环境气流影响
采用全新设计的 跨通道吹扫气流路径，自带独立空气输送系统，即使在环境气流微弱或不稳定的空间（如密闭设备内部），也能通过精准气流将离子输送至目标区域，实现长距离、高速除静电。
报警输出功能，联动设备管控
支持报警信号输出至 FMS（工厂管理系统）或制程设备控制器，当设备出现故障（如离子失衡、电源异常）时，可实时触发警报，保障生产线**运行。

三、详细技术规格

项目	规格参数
离子发生方式	电晕放电式（稳态直流技术，Steady-State DC）
电极材质	单晶硅（可更换，使用寿命约2-3年，视使用环境而定）
洁净度等级	24V DC 供电：ISO 14644-1 Class 1；24V AC 供电：ISO 14644-1 Class 2
兼容吹扫气体	清洁干燥空气（CDA）、氮气（N₂）
空气连接	4mm 内径管道（建议搭配2微米及以上精度过滤器）
空气流量	0-25 LPM（压力范围7kPa-48kPa）
输入电压/电流	24V AC：50/60Hz，典型电流0.1A（功耗2.4W）；24V DC：典型电流0.025A（功耗0.6W）
除静电时间（30cm距离，15LPM气流）	标准滤芯：<15秒；喷射跨通道滤芯：<6秒
离子平衡	±20V（15cm距离）；±50V（30cm距离）
可连接数量	搭配14-1535变压器：多4台；搭配4030控制器：多15台
覆盖范围	12英寸×12英寸（30.5cm×30.5cm，基于EOS-ESD STM 3.1 2000标准测试）
合规认证	CE、RoHS 2.0

四、适用场景与目标行业

1. 目标行业

半导体制造：涵盖前端晶圆加工、后端封装测试环节；
精密电子：光罩（Reticle）生产、微型元器件组装等。

2. 典型应用

半导体晶圆搬运机器人：安装于机器人上下方，同时消除晶圆正反面静电；
光罩存储/传输设备：在密闭狭小空间内，对光罩表面进行精准除静电；
精密仪器内部：嵌入设备狭小腔体，消除部件摩擦产生的静电（如传感器、镜头）。

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